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最新技术:射频芯片面积减少45%!

发布人:旺材芯片 时间:2024-05-03 来源:工程师 发布文章

就在当前成熟制程有产能过剩疑虑,使得各家以成熟制程为主的晶圆代工厂,开始发展利基型产品,以突围出自己的一片天空之际,晶圆代工大厂联电宣布,推出业界首项RFSOI制程技术的3D IC解决方案,此55纳米 RFSOI 制程平台上所使用的硅堆叠技术,在不损耗射频(RF)效能下,可将芯片尺寸缩小45% 以上,使客户能够有效率地集成更多射带组件,以满足5G更大的带宽需求。

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联电指出,RFSOI是用于低噪声放大器、开关和天线调谐器射频芯片的晶圆制程。随着新一代智能手机对频段数量需求的不断成长,联电的 RFSOI 3D IC 解决方案,利用晶圆对晶圆的键合技术,并解决了芯片堆叠时常见的射频干扰问题,将装置中传输和接收数据的关键组件,通过垂直堆栈芯片来减少面积,以解决在设备中为整合更多射频前端模块带来的挑战。该制程已获得多项国际专利,准备投入量产。

联电技术开发处执行处长马瑞吉(Raj Verma)表示,联电领先业界以创新射频前端模组的3D IC技术,为客户打造最先进的解决方案。这项突破性技术不仅解决了 5G/6G 智能手机频段需求增加所带来的挑战,更有助于在移动、物联网和虚拟现实的设备中,通过同时容纳更多频段来实现更快的数据传输。未来我们将持续开发如 5G 毫米波芯片堆叠技术的解决方案,以满足客户对射频芯片的需求。

联电强调,拥有业界最完整的射频前端模组芯片解决方案,提供包括移动设备、Wi-Fi、汽车、物联网和卫星通讯等广泛应用的需求。RFSOI解决方案系列从130到40纳米的制程技术,以8吋和12寸晶圆生产,目前已完成超500个产品设计定案,出货量更高达380多亿颗。除了RFSOI技术外,联电的6寸晶圆厂联颖光电还提供化合物半导体砷化镓(GaAs)和氮化镓(GaN),以及射频滤波器(RF filters)技术,可充分满足市场对射频前端模组应用的各种需求。

来源:technews(台)


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关键词:射频芯片

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