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台积电、Intel、三星狂买ASML EUV光刻机

作者:时间:2022-06-19来源:ZOL收藏

在北美技术论坛上公布了新的制程路线图,定于2025年量产2nm工艺,其采用Nanosheet(纳米片电晶体)的微观结构,取代FinFET。期间,甚至规划了5种3nm制程,包括N3、N3E、N3P、N3S和N3X,要在2025年前将成熟和专业化制程的产能提高50%,包括兴建更多的晶圆厂。

本文引用地址://m.amcfsurvey.com/article/202206/435317.htm

显然,作为产能提升以及兴建晶圆厂的关键核心设备,少不了要采购一大批。表示,计划在2024年引入的新一代EUV极紫外光刻机。

此前,曾说自己是第一个订购下一代的厂商,计划2025年前使用上。这边也是不甘示弱,本周副会长李在镕亲赴荷兰会见高层,据说至少争取到了18台(ASML今年预计出货51台EUV)。资料显示,荷兰ASML正在研发新款光刻机High-NA EXE:5200(0.55NA),所谓High-NA也就是高数值孔径,2nm之后的节点都得依赖它实现。这款光刻机价值高达4亿美元(约合26亿元人民币),双层巴士大、重超200吨。



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