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硅频率控制器(SFC)技术(二)

作者: 时间:2013-09-22 来源:网络 收藏
图2 并行振荡模式等效电路图

  R1:动态阻抗

  C1:动态电容

  L1:动态电感

  C0:静态电容

  CL:负载电容

  并行振荡模式的频率可根据以下公式:

  FL=[1/2π√(L1*C1))] 2eq eq *√[1+C1/(C0+CL)]

  其中[1/2π√(L1*C1))]是晶体串行振荡模式的频率

  根据泰勒展开:

  FL=[1/2π√(L1*C1) 2eq eq ]*[1+C1/2(C0+CL)] (1)

  从公式中可以看出,频率与C0,C1和CL都有关。

  在基频谐振中C1为10-30fF,一般取值为20fF。C0取值与晶体的尺寸有关,一般取值为5pF。但是CL的计算与晶体外接电容和PCB设计和材料有关。下图是参考电路图

硅频率控制器(SFC)技术(二)

  图3 晶体外接负载电容示意图

  从上面电路中可得出:

  1/(C11+CS1)+1/(C12+CS2)=1/(CL) (2)

  其中C11,C12是外接电容,也就是线路设计中放在晶体两边接地的两个电容。CS1和CS2是寄生电容,和PCB 电路板的走线,焊盘及芯片的管脚有关。一般为5-10pF(在本文的计算中可设为8pF)。对于C11和C12,没有确定的值(15pF-30pF),这和实际设计有关,例如取18pF。

  CL如有变化,并行振荡模式的频率也随之变化,请看图4

硅频率控制器(SFC)技术(二)

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关键词:硅频率控制器SFC技术

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