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TSMC如何看18英寸和摩尔定律

作者:王莹 时间:2013-02-19 来源:电子产品世界 收藏
现在已有三座 12 英寸晶圆厂,下一步会是 18 英寸厂。从时间上来看, 18 英寸晶圆真正投入生产应该在 2016 年之后。 中国业务发展副总经理罗镇球称。
现在有三家公司(英特尔、 、三星)投资 ASML 光刻设备的计划,因为在进入 18 英寸时会有很多的坎要过,包含设备、光学等。
目前看来 10 纳米的光刻工艺基本上只有两种选择,一个是 EUV 深紫外光,一个是 Immersion 浸润式光刻技术。 Immersion 技术是 TSMC 的研发人员开始研发的。事实上,无论是走到 EUV ,还是 Immersion ,整个成本支出跟批量生产的能力都还有许多困难要克服。
在工艺的发展上有物理上的极限,大家想把技术做到物理的极限。然而在产业整体来看 , 我们面对的不仅仅是物理的极限,还有经济上的极限和功耗的极限。
那么,摩尔定律还能撑多久?实际上,摩尔定律是个比较概念性的说法。目前 TSMC 的研发人员已经在研究 7 纳米。 摩尔定律有很多坎要走,可能也不会像过去说 18 个月翻番,他可能会变成 20 个月、 24 个月。可是这个概念一直还是往下走。我们看到 7 纳米是可以做到的。 罗镇球说。
不仅在工艺方面,在材料和器件结构方面也在演进。例如 TSMC 进入 28nm 时,就开始采用高 K- 金属栅极( HKMG )等材料; TSMC 进入 16nm 时,将开始采用 FinFET 3D 晶体管技术。
未来进入 10nm 7nm 时怎么做,怎么进入 18 英寸?三个大联盟成员( TSMC 、英特尔和三星)可能各有各的思路。


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