TSMC如何看18英寸和摩尔定律
目前看来
10
纳米的光刻工艺基本上只有两种选择,一个是
EUV
深紫外光,一个是
Immersion
浸润式光刻技术。
Immersion
技术是
TSMC
的研发人员开始研发的。事实上,无论是走到
EUV
,还是
Immersion
,整个成本支出跟批量生产的能力都还有许多困难要克服。
在工艺的发展上有物理上的极限,大家想把技术做到物理的极限。然而在产业整体来看
,
我们面对的不仅仅是物理的极限,还有经济上的极限和功耗的极限。
那么,摩尔定律还能撑多久?实际上,摩尔定律是个比较概念性的说法。目前
TSMC
的研发人员已经在研究
7
纳米。
“
摩尔定律有很多坎要走,可能也不会像过去说
18
个月翻番,他可能会变成
20
个月、
24
个月。可是这个概念一直还是往下走。我们看到
7
纳米是可以做到的。
”
罗镇球说。
不仅在工艺方面,在材料和器件结构方面也在演进。例如
TSMC
进入
28nm
时,就开始采用高
K-
金属栅极(
HKMG
)等材料;
TSMC
进入
16nm
时,将开始采用
FinFET 3D
晶体管制造技术。
未来进入
10nm
、
7nm
时怎么做,怎么进入
18
英寸?三个大联盟成员(
TSMC
、英特尔和三星)可能各有各的思路。
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