PLC及触摸屏的发射机控制系统设计方案

2.2、槽路微调电容的控制

当调节激励以改变发射机输出能量即改变D电压时，需同时改变微调电容，使耦合网络匹配，以减小反射系数[2] 。对微调电容的控制采用了如图4所示的闭环控制结构。当PLC收到来自本地TP270触摸屏的动作信号(本地控制模式);或者收到来自Wincc的动作信号(远程控制模式)时，就调用相应的功能块FC，产生脉冲和方向信号，经驱动器放大，拖动步进电机，改变电容板间距离，从而实现对电容容值的改变和耦合网络的匹配。 其中位置传感器采用的是SICK的ATM60 SSI绝对位置编码器,电容板的位置编码数据以SSI协议的格式，传送给S7-300的SM338 模块，通过Ethernet上传给处于控制室的工业PC，在Wincc组态的HMI中显示;同时通过Profibus把位置编码数据传给本地的触摸屏TP270，在Protool组态的本地人机界面中显示。

图4：槽路微调电容拖动控制简图

2.3、调理电路

为保证发射机各个系统参数的监测，采用了如图5所示的以TP521为核心的光隔离模拟测量调理电路[3]，只要调节图中的可变电阻，并适当的设置SM331模块的系数因子，就能实现参数的准确测量;并在组态的HMI中显示，达到发射机参数远程监控的目的。

图5：参数测量调理电路

3、软件设计

系统的软件设计主要包括PLC软件设计、工业PC的上位的HMI设计以及本控触摸屏TP270的HMI设计。PLC的程序设计，主要实现现场的数据测量、状态监控、控制策略的判断和与上位机的Wincc数据通信。

在Wincc组态软件环境下，分别设计了发射机的操作流程图、状态监控图、参数测量显示图、参数趋势曲线图;并具有报警记录、报表生成、打印等功能。本地控制的触摸屏TP270的HMI设计是在Protool环境下组态完成的，其功能和Wincc组态的HMI大致相同。如图6所示其人机界面(HMI)，分成了操作流程区域，发射机参数测量监控区域，发射机状态监控区域和功能选择区域。

图6：操作界面