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一种新型的电流模式曲率补偿带隙基准源

作者: 时间:2011-05-09 来源:网络 收藏


2的带隙结构
2.1IREF2的引入
从式(3)可以看出来,Veb的非线性特性可以通过改变BJT管的集电极温度特性加以控制。本文将要介绍的温度技术正是基于这个性质。图2显示了第三个IREF2的引入。如图2所示,IREF2是由BJT管Q2的射基电压产生的,Q2的集电极电流是一个与温度无关的电流IREF,由输出参考电流镜像得到。因此,与传统带隙的BJT管的射基极电压不同,管Q2的射基电压VebQ2的m=0。下面将具体介绍如何利用IREF2进行

本文引用地址://m.amcfsurvey.com/article/179146.htm

e.JPG


2.2 电路结构与分析
实现低压工作和补偿的完整电路结构如图3所示。该电路共包含了5个部分:2个电流生成电路,1个偏置电路,1个启动电路和1个电流相减电路。图中IREF1是2个电流之和,由传统的带隙电路产生,可表示为:
f.JPG
通过电流镜的镜像,得到IREF为:
g.JPG
式中:K1是M3和M2的宽长比比值;K2是M9和M7的宽长比比值。因为Q1a和Q1b的集电极电流为PTAT电流IPTAT,而Q2的集电极电流为与温度无关的电流IREF,回顾式(3),VebQ1a和VebQ2可分别写成:
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基尔霍夫电流相关文章:基尔霍夫电流定律




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