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差分放大器中的不匹配效应及消除方法

作者: 时间:2009-09-17 来源:网络 收藏
图7(a)给出考虑有栅阴影存在时的结构图,在图中,如果阴影区出现在源区(或漏区),那么这两个器件不会因阴影导致不对称。在图中,即使标出了这两个管子在阴影区的源(或漏)极,这两个MOS管也不一样,这是因为M1管源区的右边是M2管,而M2管源区的右边是场氧。同样,M1和M2左边的结构也不一样。就是说在制造过程中,M1和M2周围的工艺步骤不一致。因此图8所示的结构更好。
图8所示结构固有的不对称性可以通过在晶体管两边加两个虚拟MOS管的方法加以改进,因为这可以使M1和M2管周围的环境几乎相同,如图9所示。

本文引用地址://m.amcfsurvey.com/article/188625.htm

同时,在对称轴的两边保持相同环境也很重要。例如,在版图中,只有一个MOS管旁边有一条无关的金属线通过,这会降低对称性,增大M1和M2之间的失配。在这种情况下,也可以在另一边放置一条相同的金属线(见图10),最好的办法就是去掉引起不对称的金属线。

对于大的晶体管,对称性就变得更困难了。例如,在图11所示的差分对中,为使输人失调电压较小,这两个晶体管的宽度都比较大,但沿x轴方向的梯度会引起明显的失配。为了减小失配,可以采用“共中心”的布局方法。这样沿x轴和y轴方向的一阶梯度就会互相抵消。如图12所示,这种布局把M1和M2都分成两个宽度为原来50%的晶体管,沿对角放置且并联连接。然而,在版图上布线很困难,经常会导致如图13所示的系统不对称,或者线对地电容及线间电容的不同而引起整体不对称。对于规模大一点的电路,如运放,则引走线可能过于复杂而无法实现。

线性梯度,也可像图12所示,通过“一维”交叉耦合的办法得到抑制。这里,所有四个宽度为50%的晶体管一字排开,M1和M2可由相邻两个晶体管与相距最远的两个晶体管分别相连构成,也可由两组相间隔的晶体管分别相连构成。
为分析该结构中的梯度,假设每两个相邻的半宽晶体管之间的栅氧电容变化为△Cox。将M1a和M4a并联,得到:


因此,这种类型的交叉耦合抵消了梯度效应的影响。若用图13所示的组合可得:


式(4)和式(5)显示,图13所示的方法消除误差的能力较差。

4 结 语
针对CMOS差动放大器晶体管的不匹配,从理论上深刻分析其不匹配原因,介绍电路设计方法和版图设计方法进行失调电压的消除,并对所提出的电路技术进行仿真验证,能够达到降低失调电压的效果。


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