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MEMS技术加工工艺与IC工艺区别

作者: 时间:2013-10-15 来源:网络 收藏
多的功能。将基片结合起来的办法有焊接、融接、压接(固相结合)、粘接、阳极键合、硅直接键合、扩散键合等方法。

(四)逐次加工

逐次加工是同时加工工艺的补充,常用于模具等复杂形状的加工,其优点是容易制作自由形状,可对非平面加工,缺点是加工时间很长,属单件生产,成本高。包括以下几种:

逐次除去加工:如用于硅片切割的砂轮加工;细微放电加工、激光束加工、离子束加工、STM(扫描隧道显微镜)加工。

逐次附着加工:如利用离子束CVD技术,可使仅被照射部分的材料堆积,形成某种结构。

逐次改质加工:比如可以利用电子束或激光照射的办法使基板表面局部改质的技术,它的应用有电子束掩膜制作、非平面光刻、局部掺杂等。

逐次结合加工:比如IC引线焊接、局部粘结等。

主要差别

MEMS技术加工工艺与IC工艺区别


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关键词:MEMSIC工艺

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