传统过孔数显著增加 条状过孔成大势所趋

　　对于28纳米及以下节点，指导过孔选择和放置的规则远比图表复杂（图2）。不仅仅有更多规则，而且规则更加复杂。正如讨论的一样，视情况而定，可供选择的过孔类型也很多。各代工厂有自己的优先次序，这决定其将选择哪种过孔类型。此外，过孔放置还可能受双重成像等设计因素的影响。

　　图2 绕线工具正面临过孔规则增多及其复杂性提高带来的挑战

　　与过孔选择相关的新工艺的要求不仅非常多，而且执行起来相当复杂。如果您使用的是矩形过孔，该如何放置过孔阵列呢？应对双图案需求时，如何准确确定过孔是不是被包住呢？LEF/技术文件不仅需要能够了解和应对这些情况，还必须能够了解和适应特定工厂对 优先事项、选择顺序、过孔方向和过孔被包住的要求。绕线工具每放置一个过孔，必须确定布局选项，然后了解工厂的优先顺序来确定正确的过孔选择和放置。此外，正如之前所讨论的，这些优先事项可能会经常发生变化，需要不断更新绕线规则。

　　因此，设计师将做些什么呢？即使你尽可能的充分利用里绕线系统工具，比如说，使用LEF/技术文件实现的布局中完成了约80%的过孔放置，您将仍然会错过约20%需要做的事情来优化过孔选择和布局。当然，正如您在学校学到的，这样的20%通常是最难且最具挑战性的过孔优化，造成良率影响的可能性最大。尽管有这些获得工厂认证的实用工具帮助您成功排除和纠正这些过孔问题，准确反标到设计布局文件 （DEF） 需花费多少时间和精力呢？

　　然而，还是存在着希望。最近的技术进步使得使用这些代工厂验证过的实用工具自动解决这些复杂的过孔摆放问题使其符合 DRC/DFM 规则， 而且可以把这些改变自动反标在原始的布局和布线的 DEF 中变得可行。不远的将来，设计师有可能可确保在设计流程的布局和布线阶段能够高效、准确和迅速地实现设计所需的100%过孔优化。

Jean-Marie Brunet是俄勒冈州 Wilsonville 明导公司（Mentor Graphics） 可制造设计和布局布线整合产品营销总监。