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高亮度LED的发展趋势

作者: 时间:2011-10-23 来源:网络 收藏

  通常的芯片有必要透过有机材料来固定,往往伴随著这种封装材料的热量出现,会使得光的质量出现劣化,产生光输出降低的问题。另一方面flip-chip的封装之所以可以达到高发光效率,因为是将结晶层置于下方,利用bump金属材料封装在基板上,所以能够有效率的把结晶层内的热量排除,而且因为不需要连接材料,所以稳定性也相当高,用来作为照明用的大电流、大型元件,这是非常好的封装设计。

  提高电极的可视光透过率 增加光通量

  最近也有工程师开始利用ITO作为透明导电膜,这是因为ITO电极的可视光透过率非常高,而且电极材料自身也不大会出现光吸收现象而造成光损耗,而且在光学设计上,本身折射率是GaN折射率和Mold材料树脂的中间值,所以能够大幅增加输出效率。因为GaN系结晶折射率很高,所以在元件结晶内部发出的光,并没有透出而是在内部反射,最终被材料所吸收。例如n-GaN层/蓝宝石基板界面的临界角是47度,p-GaN层/mold材料的epitaxial树脂界面的临界角是38度,一般的输出效率至少是30%。因此如果能够将发光层发出的光全部透出的话,很有可能可以将LED的亮度增加到目前两倍以上。

   LED构造逐渐固定化之后的一两年,关于这一方面的讨论相当多,包括了n-GaN层/蓝宝石基板界面以及p-GaN层表面等等。在n-GaN层/蓝宝石基板界面上,最有代表性的研究是透过界面加工,制造出光学的凹凸,并且在所形成凹凸的蓝宝石基板上生成结晶。


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