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原位拉曼系统--实时监测半导体薄膜生长全过程

• 在半导体工艺中，薄膜沉积是在半导体原材料硅晶圆上分阶段生长薄膜的核心工艺。它在半导体电路之间起到区分、连接和保护作用。由于其厚度非常薄，在晶圆上形成均匀地薄膜具有很高的难度。所以在化学沉积过程中，确认薄膜材料是否正常生长，以及能否产生所需的特定物性，就非常重要。为了确保薄膜沉积按照预期进行，通常将已长成的薄膜从真空化学气相沉积（CVD）腔室中取出，然后用分析仪器进行检查。它被称为“Ex-Situ”方法，是从外部而不是在腔室内部进行分析。但是，从真空室中取出的薄膜可能会与大气中的氧气或水分接触，从而改变物性
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