近日，国际标准化组织（ISO）正式发布了微束分析领域中的一项国际标准：“基于测长扫描电镜的关键尺寸评测方法”（Microbeam analysis — Scanning electron microscopy — Method for evaluating critical dimensions by CD-SEM (ISO 21466)），该标准由中国科学技术大学物理学院和微尺度物质科学国家研究中心的丁泽军团队主导制定，是半导体线宽测量方面的首个国际标准，也是半导体检测领域由中国主导制定的首个国际标准，
近日,国际标准化组织(ISO)正式发布了微束分析领域中的一项国际标准:“基于测长扫描电镜的关键尺寸评测方法”(Microbeam analysis — Scanning electron microscopy — Method for evaluating critical dimensions by CD-SEM (ISO 21466)),该标准由中国科学技术大学物理学院和微尺度物质科学国家研究中心的丁泽军团队主导制定,是半导体线宽测量方面的首个国际标准,也是半导体检测领域由中国主导制定的首个国际标准,
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