外延工艺控制

外延工艺控制
xcl




§1.扩散原理
§2. 典型扩散工艺方法 §3 工艺控制和质量检测
§4.工艺控制和质量监测
一.工艺控制
二.质量检测

2005-3-11 1 2005-3-11 2




一.工艺控制 假片和试片
假 假
污染控制：颗粒、有机物、薄膜、金属离子 试
片 片 片
污染来源：操作者,清洗过程,高温处理,工具
参量控制：温度，时间，气体流量(影响最大?)

1.温度控制：源温、硅片温度、升温降温、测温