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尔必达发布上季度结算报告 公司继续维持亏损经营

—— 尔必达指出即便在困境中还是确保了其领先于竞争对手的技术优势
作者: 时间:2011-08-11 来源:SEMI 收藏

发布了2011财年第一季度(2011年4~6月)结算报告。受价格大幅下滑影响,该公司第一季度仍持续营业亏损状态。但指出,即便在困境中还是确保了其领先于竞争对手的技术优势,并指出了其他竞争公司将被甩在后边的可能性。

本文引用地址://m.amcfsurvey.com/article/122403.htm

  结算报告显示,销售额为同比(YoY)减少45.7%、环比(QoQ)增加3.9%的957亿日元。营业利润为亏损38亿日元(上年同期为盈利444亿日元,上季度为亏损52亿日元),纯利润为亏损79亿日元(上年同期为盈利307亿日元,上季度为亏损82亿日元)。销售额减少的原因是,价格下滑超过了预期。东日本大地震导致的对采购担忧,曾造成面向大客户及现货的价格的一时性上涨,但之后采购忧虑的解除和最终产品需求低迷,致使价格急剧下滑。据介绍,实际上,截至8月5日,2Gbit产品面向大客户价格已降至1.59美元,现货价格降至1.09美元。结果造成当初预期的20~30%环比bit增长率仅达为15%。关于今后的预测结果,第二季度(2011年7~9月)的环比bit增长率为10%左右,全财年(2011年4月~2012年3月)的同比bit增长率为40~50%。DRAM市场行情方面,最早将在9月、最迟将在11月触底反弹。

  结算报告称,市场正由个人电脑(PC)用存储器模块转向智能手机、平板终端及“UltraBook”等将DRAM直接安装在印刷基板上的形态,拥有技术实力来应对这种需求转变的DRAM厂商将获得市场份额,尔必达强调其比其他竞争公司具有优势。具体为,作为可省空间大容量封装技术,尔必达开发出了重叠有4块DRAM芯片的PoP(package on package)、DDP(double density package)及TSV(through Silicon via)等多种封装技术,而芯片方面,该公司已开发出3Xnm技术以及采用HKMG(高介电率栅极绝缘膜与金属栅极电极的组合)的4Xnm技术,采用HKMG的25nm技术也将在2012年开发完毕,这些技术均为全球首创,而且领先于其他竞争公司。据尔必达介绍,面向这些之后的20nm技术的实现也已经有了眉目。但1Xnm技术还存在不确定因素,比如因每单元的蓄积电子数量减少至数万个,需要放宽DRAM规格,还需要考虑采用EUV曝光技术等。



关键词:尔必达DRAM

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