ITO表面处理方法
功函数（eV）
表面粗糙度（nm）
未处理
16.1
4.5
2.6
机械抛光
16.3
4.2
2.3
Ar等离子体
16.7/17.3/17.0
4.5
10.9/15.4/23.0
氧等离子体
16.4/15.0/16.4
4.35/4.75/4.65
1.4/1.4/2.1
王水
18.5/23.5/28.6
4.6/4.3/4.7
3.8/8.4/8.8
功函数（eV）
表面粗糙度（nm）
未处理
16.1
4.5
2.6
机械抛光
16.3
4.2
2.3
Ar等离子体
16.7/17.3/17.0
4.5
10.9/15.4/23.0
氧等离子体
16.4/15.0/16.4
4.35/4.75/4.65
1.4/1.4/2.1
王水
18.5/23.5/28.6
4.6/4.3/4.7
3.8/8.4/8.8
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