新闻中心

EEPW首页>模拟技术>设计应用> ITO表面处理方法

ITO表面处理方法

作者: 时间:2012-03-13 来源:网络 收藏
owtext .5pt" vAlign=top width=131>

王水/氧等离子体

27.7

4.6

6.0

氧等离子体/王水

>30.0

4.7

1.8

HCL

26.3

4.54

1.3

4 结束语

通过上面的对比发现,使用机械抛光法能得到最光滑的表面,氧等离子体处理能得到功函数最高的表面,UV臭氧处理的表面电阻率最低。只有通过结合使用多种方法才能得到最佳性能的ITO表面。

离子色谱仪相关文章:离子色谱仪原理

上一页 1 2 3 下一页

关键词:ITO表面处理

评论


相关推荐

技术专区

关闭