Toppan宣布28nm光刻掩膜准备就绪 通过IBM认证
ToppanPrinting公司在同IBM的合作下,开发出新的光刻掩膜制造技术,可用于制造32nm和28nm掩膜。
本文引用地址://m.amcfsurvey.com/article/93871.htm该公司称,这些掩膜在日本Asaka工厂制成,通过了IBM的认证。
Toppan从45nm节点就开始和IBM合作,去年双方签署了32nm掩膜技术的最后阶段的合作协议,以及22nm掩膜的合作开发协议。
ToppanPrinting公司在同IBM的合作下,开发出新的光刻掩膜制造技术,可用于制造32nm和28nm掩膜。
本文引用地址://m.amcfsurvey.com/article/93871.htm该公司称,这些掩膜在日本Asaka工厂制成,通过了IBM的认证。
Toppan从45nm节点就开始和IBM合作,去年双方签署了32nm掩膜技术的最后阶段的合作协议,以及22nm掩膜的合作开发协议。
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