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1999年2月23日,上海华虹NEC电子有限公司建成试投片

作者: 时间:2009-12-04 来源:电子产品世界 收藏

  1999年2月23日,上海电子有限公司建成试投片,工艺技术档次从计划中的0.5微米提升到了0.35微米,主导产品64M同步动态存储器(S-DRAM)。这条生产线的建-成投产标志着我国从此有了自己的深亚微米超大规模集成电路芯片生产线。

本文引用地址://m.amcfsurvey.com/article/100647.htm


关键词:华虹NEC

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