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Altatech Semiconductor获得德国科研机构的CVD设备订单

作者: 时间:2011-02-13 来源:Altatech 收藏

Semiconductor获得了一份多功能Alta平台订单,该订单来自德国慕尼黑Fraunhofer Research Institution。该200mm Alta系统可用于等离子体增强工艺,也可用于低于气压的CVD工艺,Fraunhofer中心将用该设备在硅晶圆和SOI晶圆上淀积介质层。

本文引用地址://m.amcfsurvey.com/article/116709.htm


关键词:AltatechCVD

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