GlobalFoundries 20nm工艺成功流片
—— 是新工艺发展之路上里程碑式的关键一步
GlobalFoundries今天宣布，最新的20nm工艺试验芯片已于近日成功流片，这也是新工艺发展之路上里程碑式的关键一步。
本文引用地址：//m.amcfsurvey.com/article/123071.htmGlobalFoundries20nm工艺使用了四家电子设计自动化(EDA)厂商的工艺流程，分别是Cadence Design Systems、Magma Design Automation、Mentor Graphics Corporation、Synopsys Inc.。
通过此次成功流片，GlobalFoundries证明自己已经做好准备，可以接受客户对20nm新工艺的评估了，不过除了畅谈和几家EDA伙伴之间的亲密合作之外，GlobalFoundries并未透露新工艺的更多细节，博包括使用了哪些新技术、有哪些潜在客户、何时能够量产等等。
20nm是迄今为止最为先进的半导体技术。今年初的时候，IBM曾经展示过全世界第一块20nm工艺晶圆，使用了HKMG和Gate-Last技术。七月中旬的时候，三星电子也宣布完成了全球第一颗20nm工艺试验芯片的流片。
根据此前消息，GlobalFoundries 22/20nm可能会首次使用先进的极紫外光刻技术，唯一的问题就是要到2014-2015年才能量产。曾有一份AMD路线图显示2013年的服务器处理器会采用28nm工艺，这是否意味着AMD会耐心等待极紫外光刻的20nm呢?
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