新闻中心

EEPW首页>光电显示>业界动态> 专利战再反击 亿光于美国告日亚化学侵权

专利战再反击 亿光于美国告日亚化学侵权

—— 此次法律行动即为亿光于全球积极维护知识产权的一环
作者: 时间:2012-04-23 来源:LED制造 收藏

  台湾封装龙头厂20日于美国密执安州东区地方法院,对日本大厂日亚化学工业提起专利侵权诉讼。表示,公司为日亚化于产业的主要竞争对手,公司选择持续捍卫客户权益免于受日亚化的指控,此次法律行动即为于全球积极维护知识产权的一环。

本文引用地址://m.amcfsurvey.com/article/131662.htm

  此诉讼中,亿光主张的专利为美国6,653,215号专利,其中涉及LED金属化制程技术,亿光请求法院禁止日亚化于美国制造、使用、贩卖、为贩卖之邀约或进口涉侵权产品,并请求损害赔偿,而日亚化售于美国的被控侵权产品为应用于住宅照明、街灯及聚光灯等领域的产品。

  同时,亿光也针对日亚化应用于白光LED相关的美国5,998,925号专利及7,531,960号专利,诉请美国法院宣告该两项专利无效及不可执行,并请求确认亿光产品不侵权。



关键词:亿光LED

评论


相关推荐

技术专区

关闭