高压功率VDMOSFET的设计与研制

4 仿真优化结果
本设计采用“5个场限环+铝场板+多晶场板”的终端结构，通过工艺仿真软件TSUPREM-4和器件仿真软件MEDICI进行联合仿真，不断调整工艺参数，优化元胞和结终端结构，最终使各项参数的仿真指标满足设计要求(详见表1)。

5 器件研制结果分析
本产品研制按照功率VDMOSFET正向设计的思路，选取100>晶向的衬底硅片，采用硅栅自对准工艺流程，首次流片遵照计算机仿真优化的工艺条件，进行工艺摸底；针对测试结果，逐步进行局部工艺调整，最终使得产品指标满足设计要求。
(1)第一次流片
产品测试结果表明：产品的击穿电压均值为438．82 V，并且普遍低于设计要求的500 V。
经分析，其可能存在的原因是：由于衬底反扩散较大，从而导致外延层电阻率偏低，使得击穿电压降低。因此，在第二次流片时，将外延电阻率提高5 Ω·cm，其它工艺条件保持不变。
(2)第二次流片
测得的击穿电压平均值551．68 V，大于500 V，满足设计要求。然而，随着外延层电阻率的提高，部分导通电阻已大于设计要求的850 mΩ。
改进方案：对于高压功率VDMOSFET器件，JFET电阻在导通电阻的组成部分中，占有相对较大的比重。因此，在击穿电压余量充分的条件下，可考虑通过适当减小P-body推结时间的方法，从而增加两相邻P-body的间距，降低JFET电阻。因此，在第三次投片时，将P-body的推结时间调减20分钟，其它工艺条件相对于第二次流片保持不变。
(3)第三次流片
测试结果表明：在减小P-body推结时间后，导通电阻小于850 mΩ，满足设计要求；虽然产品的击穿电压(均值536 V)有所下降，但仍满足大于500 V的设计要求；其余静态参数、动态参数指标也均满足设计要求。
因此认为，本文高压功率VDMOSFET的器件设计与研制工作是成功的。

6 结束语
本文在计算机仿真优化的基础上，通过对产品测试结果的分析及工艺条件的调整，最终实现了成功研制。相对于传统的流水线小批量投片、反复试制的方法大大节约了研制成本，收到了事半功倍的效果。
随着半导体生产制造工艺的不断改进，器件模拟和工艺模拟的精度与实际工艺流程的吻合性将越来越好，使产品的模拟结果更具有实用性、可靠性。