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短沟道MOSFET散粒噪声测试方法研究

作者: 时间:2009-12-16 来源:网络 收藏

3 测试结果及讨论
图3和图4分别为器件工作在亚阈区和反型区条件下,电流噪声功率谱随漏源电流的变化情况。

本文引用地址://m.amcfsurvey.com/article/195583.htm

由图中可以看出,在亚阈区,小漏源电流的条件下,沟道电流和电流噪声功率谱呈现线性关系,证明器件在此工作条件下存在散粒噪声。相比于长沟道器件,短沟道器件沟道源区附件明显存在一个势垒,势垒高度随栅源电压的增大而增大,随漏源电压的增大而减小。在此偏置条件下,沟道内电场强度很小,扩散电流成分显著,扩散电流随机通过源极附近势垒,引起散粒噪声。随着漏源电压的增大,沟道内电场增强,势垒减小,漂移电流成为主要成分,散粒噪声随之被抑制。
在反型区,小的漏源电流条件下,器件工作在线性区。如图4所示,与亚阈区类似,可以看到明显的散粒噪声成分。但是随着漏源电流的增大,在漏源电流大约为0.5μA时,器件进入饱和区。此时源区势垒和沟道内扩散电流成分显著减小,因此导致由扩散电流引起的散粒噪声减小。但此时漏端沟道正好处在夹断点位置,载流子通过夹断点耗尽区是弹道传输模式,引起了散粒噪声的产生,导致散粒噪声再次随漏源电流的增大而增大。但随着漏源电流的继续增大,夹断区长度不断增加,载流子在夹断区散射增强,散粒噪声再次被抑制。


4 结束语
针对散粒噪声难以测量的特点,文中提出了一种低温散粒方法。在屏蔽环境下,将被测器件置于低温装置内,有效抑制了外界电磁波和热噪声的干扰。采用背景噪声充分低的放大器以及偏置器、适配器等,建立低温散粒系统。应用本系统对短沟道器件进行,分析该器件散粒噪声的特性。文中的工作为器件散粒噪声测试提供了一种方法,对短沟道MOSFET散粒噪声特性进行了分析。


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