ASML和IMEC启用联合High-NA EUV光刻实验室

自ASML官网获悉，6月3日，比利时微电子研究中心（imec）与阿斯麦（ASML）宣布在荷兰费尔德霍芬（Veldhoven）开设联合High-NAEUV光刻实验室（High NAEUVLithography Lab），由ASML和imec共同运营。

声明中称，经过多年的构建和集成，该实验室已准备好为领先的逻辑和存储芯片制造商以及先进材料和设备供应商提供第一台原型高数值孔径EUV扫描仪（TWINSCAN EXE：5000）以及周围的处理和计量工具。

据悉，该联合实验室的开放是High-NA EUV大批量生产准备的一个里程碑，预计将在2025-2026年期间实现。通过向领先的逻辑和存储芯片制造商提供High-NA EUV原型扫描仪和周边工具(包括涂层和开发轨道，计量工具，晶圆和掩膜处理系统)，imec和ASML支持他们降低技术风险，并在扫描仪在其生产晶圆厂中运行之前开发私有的High-NA EUV用例。此外，还将向更广泛的材料和设备供应商生态系统以及imec的高数值孔径图案化计划提供访问权限。