反射式RAP型椭圆偏振光谱仪及其应用

1引言

椭圆偏振(简称椭偏)光谱测量是一种非接触、非破坏性的光学分析技术，是研究材料光学性质的重要手段［1］。椭偏光谱测量技术自问世以来已有100多年历史，1887年，Drude发现光与物质相互作用将导致光的偏振态发生改变，偏振态在相互作用前后所发生的变化与物质的属性、厚度和结构有关。Drude以此提出了椭圆偏振光测量的理论并建立了第1套实验装置，测量了18种金属的光学常数。随后，椭偏测量研究一直陷于停滞，直到Tronstad将其应用于电化学的研究中，椭偏测量所具有的高精确度与非破坏性的优点才得以重视并广泛地应用在各个研究领域中。自从1945年Rothen首次提出Ellipsometry (椭偏)，将此测量技术从传统的偏振测量方法独立出来，至今椭偏测量技术已获得极大的发展，不论是测量理论的研究还是测量仪器的研发均取得大量的有价值成果［1-3］。

椭偏测量的基本原理是测量光束经材料反射、透射或散射前后偏振态的改变，由于偏振态的改变与材料的光学性质、厚度、结构直接相关，因此，通过椭偏测量可以获得材料的光学常数。应用最广的是反射式椭偏仪，即测量反射光相对于入射光偏振态的变化，其中依据测量方式又可分为消光式椭偏仪与光度式椭偏仪，消光式椭偏仪以寻找输出最小光强的位置为测量手段，光度式椭偏仪则以测定分析光强的输出变化为测量手段［1-3］。

随着椭偏测量理论的研究与实验技术的发展，现代椭偏仪已获得巨大的技术进步，典型的现代椭偏光谱仪其发展演化主要有如下3个方向［1］:

①测量的光谱范围越来越宽，以满足各种不同材料的测量需求，尤其对于宽禁带的材料，广阔的波长范围才能获得完整的分析数据，同时对于一些特殊材料必须在紫外与红外波段进行测量，因而也出现相应波长范围的专用椭偏仪。②测量的自动化程度越来越高。这主要得益于计算机技术的进步并在椭偏技术中的应用。椭偏仪除被用于研究用途之外，又被大量、广泛地应用于工业生产当中，产量与产能上的需求促使椭偏仪技术向测量自动化、数据分析自动化的方向发展，当今知名的椭偏仪厂商均以自动化与系统集成作为产品研发的重要方向。③测量的速度越来越快，以面阵CCD探测器为主流的多通道探测技术［4］以及并行测试模式［5］使椭偏仪的响应时间越来越短，原来只能对样品进行离位测量的椭偏测量技术发展为可以实时监控的在线测量技术，极大地拓展了该技术在工业应用领域的发展空间。

椭偏测量技术以其高精度、快速、简易以及对测量对象限制少等特点广泛地应用于科研与工业生产当中，其主要应用的领域包括［1，3］:

①材料的光学性质测量。被测的材料可以是固体或是液体，可以是各向同性也可以是各向异性，椭偏测量优点在于不用通过Kramers-Kronig关系而直接获得材料的光学常数与介电函数谱。②界面及表面应用。椭偏测量技术可用于不同材料交界面的分析。③微电子与半导体产业。椭偏测量技术常用于半导体加工或微电子研究中薄膜生长的监控与分析，现代新材料的研究开发也常常使用椭偏技术作为研究手段。④生命科学。椭偏测量技术可用于细胞表面膜相互作用、蛋白质等大分子的测量。

国内科研教学以及工业生产中也有多种型号的椭偏仪获得应用［6］，但国内高校目前用于教学的椭偏仪多为单波长消光式，而且自动化程度不高，测量误差较大。本文报道一种反射式同时旋转起偏器和检偏器的动态光度式全自动椭偏仪，并用于实验应用。

2椭偏光谱测量原理

椭偏光谱测量以光波为测量媒介，可以测定任意波长下2个相互独立的椭偏参数，通过对椭偏参数的求解即可获得样品的光学性质，具有非破坏性与非接触的优点。被测的样品可以是固体、液体或者薄膜，可以在大气、真空、高温等多种环境下对样品结构与光学性质进行研究［1，3］。

2. 1材料的光学常数与Kramas-Kronig关系［7］

电磁波在介电常数ε、电导率σ和磁导率μ的各向同性介质中传播，满足Maxwell方程组:

对大多数材料，在可见光波段光频电场E的频率不足以使电子的磁矩发生响应，因此可认为μ= 1，同时，如果介质内不存在自由电荷，则上式可改写为

包括实部n(折射率)和虚部k(消光系数)2个量，通常是波长的函数。

引入复介电函数ε～，其物理意义为介质对外加电场的响应，定义