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一种新的晶圆级1/f噪声测量方法

作者:黄丽华 时间:2009-08-31 来源:电子产品世界 收藏

  图3. 不同栅极偏压下测得的噪声数据

本文引用地址://m.amcfsurvey.com/article/97638.htm

  为了分析栅氧电容相关性或进行其他进一步的研究,我们还测量了不同栅氧厚度下的。图4给出了不同栅氧厚度下的测试结果。

  图4. 不同栅氧厚度下pMOS器件的测量数据

  然后,我们就可以估算出参数,建立不同的模拟模型。图5给出了在一个p沟道MOSFET的强反型区中测得的漏极电流噪声功率。



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