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RIE反应离子刻饰应用

菜鸟
2019-08-07 15:54:59 打赏

主要用途
器件表面图形的刻蚀。

性能参数
a)可实现各向异性刻蚀,工艺稳定,重复性好;
b)射频功率源:600瓦,频率13.56MHz;
c)刻蚀时间可调范围:10s-1800s
d)配置3路MFC

应用范围
对Si、 Poly-Si、 SiO2、 Si3N4、 PI、 Ti、 Ta、 Mo等物质进行各项异性刻蚀后的观察。




关键词: 刻饰 去层 研磨 制样 失效分析

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