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在台积电奋力冲刺5nm量产之时，三星缘何突然松了油门？

• 明年将是5nm制程的大年，在台积电的5nm良率爬升再破记录，并且扩产也进入了实质性阶段之时，三星却将他们的EUV光刻机资源几乎都分给了存储芯片的制造，让人不禁疑惑，三星这是打算减缓5nm规模量产的步伐了？高歌猛进的台积电台积电在前阵举办的第26届线上技术研讨会上，除了7nm的增产计划，以及3nm的投产计划外，特别提到了他们5nm 缺陷密度提升数据，其提升趋势已经超过了7nm时的同期水准。缺陷密度：D0=缺陷密度（Defect Density）指的是：晶圆表面每平方厘米（cm²）上的缺陷个数。这是芯片制造中
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