- 原子层刻蚀和沉积工艺利用自限性反应，提供原子级控制。泛林集团先进技术发展事业部公司副总裁潘阳博士 分享了他对这个话题的看法。图 1. 原子层工艺中的所有半周期反应是自限性反应。技术节点的每次进步都要求对制造工艺变化进行更严格的控制。最先进的工艺现在可以达到仅7 nm的fin宽度，比30个硅原子稍大一点。半导体制造已经跨越了从纳米级到原子级工艺的门槛。工程师现在必须关注结构的尺寸变化，仅相当于几个原子大小。由于多重图案模式等复杂集成增加了工艺数量，进一步限制了每个步骤允许的变化。3D N
- 关键字：ALEALDCEREPESACCAR
- 本文讲述了EPC系统，RFID中间件，并在这基础上设计了一个基于EPCglobal ALE标准的嵌入式RFID中间件，使标准的RFID中间件可以集成在阅读器上，实现一体化思想。
- 关键字：中间件设计RFID嵌入式ALE标准基于
ale介绍
您好，目前还没有人创建词条ale!
欢迎您创建该词条，阐述对ale的理解，并与今后在此搜索ale的朋友们分享。
创建词条
关于我们-
广告服务-
企业会员服务-
网站地图-
联系我们-
征稿-
友情链接-
手机EEPW
Copyright ©2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《电子产品世界》杂志社 版权所有 北京东晓国际技术信息咨询有限公司
京ICP备12027778号-2 北京市公安局备案：1101082052 京公网安备11010802012473
