- ASML集团公司在美国旧金山举行的SEMICON West展会上发布多项全新光刻设备，让芯片制造商能够继续缩小半导体器件尺寸。FlexRay™ (可编程照明技术)和BaseLiner™ (反馈式调控机制)为ASML一体化光刻技术 (holistic lithography)的一部分，具有高稳定性，能够优化和稳定制造工艺。 半导体行业发展的推动力量来自小型化趋势，以降低生产成本，同时提高器件性能。不过，随着半导体器件尺寸的缩小，工艺窗口(生产出合格芯片的工艺允许偏差)也相应
- 关键字：ASMLFlexRayBaseLinerEclipse
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