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后摩尔时代,十大EDA验证技术趋势展望

• 过去的40 年里，不断发展的工艺和架构设计共同推动着摩尔定律持续前进，即使是今天也还有3 nm、2 nm、1 nm 先进工艺在地平线上遥遥可及。但是现实趋势来看，更高工艺、更多核、更大的芯片面积已经不能带来过去那种成本、性能、功耗的全面优势，摩尔定律确实是在进入一个发展平台期，也意味着我们进入了“后摩尔时代”。半导体设计产业开始不仅是通过工艺的提升，而是更多考虑系统、架构、软硬件协同等，从系统应用来导向、从应用来导向去驱动芯片设计，让用户得到更好的体验。而这些也是EDA 行业需要给半导体赋能的关键方向。芯
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