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台湾晶圆厂选择 ASM 提供 High-k ALD工具

  •   ASM International N.V. 宣布一家台湾晶圆厂为其28 纳米节点high-k 闸极介电层量产制程选择ASM的Pulsar原子层沉积技术(ALD)工具。   除此之外,此家晶圆厂也将与ASM针对最新世代的high-k闸极技术进行制程开发活动。 ASM 在2009年第2季将针对进阶节点开发计划提供额外的 Pulsar 制程模块。该晶圆厂在过去4年也使用ASM的ALD high-K和金属闸极设备来开发其以铪基材料为基础的high-k 闸极制程。   纳米节点上实现成功的high-K制程
  • 关键字:ASMhigh-k晶圆

凌华推出High Speed Link延伸模块

  •  凌华科技推出High Speed Link系统延伸模块HSL-HUB3与HSL-Repeater。此产品可以为HSL用户提供最长可达2400公尺的长距离使用及多点连接(multi-drop)接线架构,搭配高达十余种I/O及运动控制模块的组合,提供客户实时控制的完整解决方案。      凌华的High Speed Link(HSL)技术是串列式远程I/O实时控制的绝佳选择。HSL-HUB3/Repeater基于HSL技术,针对接线的
  • 关键字:HighLinkSpeed工业控制凌华汽车电子通讯网络无线延伸模块工业控制

瑞昱推出High Definition 音讯转换芯片

  • 音讯内容保护 (Content Protection) 技术与透过传统电话的Skype应用功能加速音讯转换芯片在数字家庭的应用 瑞昱半导体在美国旧金山的Intel春季科技论坛推出最新一代的高精准音讯转换芯片 (High Definition Audio Codecs; HD Audio Codecs) ALC885与ALC888 Telecom。瑞昱ALC885内建内容保护与防拷&nbs
  • 关键字:HighDefinition音讯转换瑞昱通讯与网络芯片

尼康NA超过1的液浸设备半导体商正式采用

  •  尼康日前正式宣布,2006年1月已向大型半导体厂商供应用于55nm工艺(hp55)芯片制造、开口数(NA)为1.07的液浸ArF曝光设备“NSR-S609B”。这是全球首次供应NA超过1的液浸ArF曝光设备。   这家大型半导体厂商的名字,尼康没有公布,估计是过去在技术方面与之开展合作的东芝。   作为全折射型液浸曝光设备,NSR-S609B具有全球最大的NA,配合偏光照明技术,能够实现很高的分辨率。对于液浸产生的缺陷和重合不稳定性的问题,据称利用名为“Local-fill(局部
  • 关键字:NA尼康嵌入式系统
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