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在光刻机新技术的研发上, 我们似乎又掉队了

  • 目前全球仅4家厂商,能够制造光刻机,分别是荷兰的ASML,日本的尼康、佳能,和上海的微电子。从技术水平来看,ASML>尼康>佳能>上海微电子。如下图所示,ASML的光刻机能够达到3nm的精度了,而尼康的主要在28nm及以上,而佳能、上海微电子的在90nm以上。再给大家一个数字,这是某机构统计的,2021年全球半导体前道光刻机的销售情况,从这张表可以看出来,小米7nm的EUV光刻机,ASML全部包揽。在45-7nm的光刻机上,仅有尼康、ASML能够推出,尼康也就是打酱油,仅卖出4台,另外的
  • 关键字:光刻机ASML尼康佳能上海微电子

上海微电子:以面向市场做成产品为目标

  •   半导体设备特别是光刻机技术难度很大,它对整个国家的工业基础要求非常高,对国家创新能力及技术水平的提高作用很大,因此国家发展半导体设备装备产业的决策非常正确。   但是,由于不同的设备制造难度、自身特点及市场规律不同,会存在不同的发展策略和思路,因此做法上不能千篇一律。每个公司的发展策略不同,我们现在强调的是,第一不能做假,第二要勇于创新。我们想建一座高楼大厦,隐蔽工程也就是地基要做得很扎实,只有地基深厚,微电子设备产业的大厦才能建得更高。   发展半导体设备产业,应发展重点产品,不该面面俱到。尽管
  • 关键字:上海微电子IC半导体消费电子
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