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惠普向第三方授权纳米压印光刻技术

• 　　加州Nanolithosolutions公司日前获得了惠普实验室授权的一项纳米压印光刻技术，该技术可用于生产线宽只有15纳米的电路板原型。 　　对此，公司首席执行官Bo Pi称：“利用惠普的该项技术，我们可以从事生物芯片、光子芯片，以及相关应用的研究。” 　　利用惠普的新技术，Nanolithosolutions已经开发出一套工具。该款工具包含一个模块和掩模对准器，可用于创建基片上的晶体管模式。 　　据悉，该款工具简单易用，成本低廉，可以将普通的掩模对准器变成高分辨率的纳米压印光刻机。
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