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高k金属栅极文章进入高k金属栅极技术社区

传台积电取消32nm工艺

  •   据称,全球第一大半导体代工厂台积电已经完全取消了下一代32nm工艺,算上一直不顺利的40nm工艺真可谓是屋漏偏逢连夜雨了。   台积电方面尚未就此发表官方评论,不过已经有多个消息来源确认了这一点。   不过这并不意味着台积电的新工艺研发就走进了死胡同。   事实上,台积电在今年八月底就已经在全球首家成功使用28nm工艺试制了64Mb SRAM单元,并在三种不同工艺版本上实现了相同的良品率。   按照规划,台积电将在明年前三个季度分别开始试产28nm高性能高K金属栅极(28HP)、28nm低功耗
  • 关键字:台积电32nm40nm高K金属栅极

Intel高级副总裁:Intel不懈努力寻求延续摩尔定律

  •   2009秋季英特尔信息技术峰会于9月22日至24日在美国旧金山举行。下面是Bob Baker第一天主题演讲的主要内容及新闻亮点。   Bob Baker:“引领硅技术创新”(Silicon Leadership – Delivering Innovation)   英特尔高级副总裁兼技术与制造事业部总经理   Bob Baker今天发表主题演讲介绍了英特尔通过新材料、硅技术与制造能力的研究与创新,将摩尔定律不断推向前进的不懈努力。   · 全球
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高k金属栅极介绍

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