- 据称，全球第一大半导体代工厂台积电已经完全取消了下一代32nm工艺，算上一直不顺利的40nm工艺真可谓是屋漏偏逢连夜雨了。 台积电方面尚未就此发表官方评论，不过已经有多个消息来源确认了这一点。 不过这并不意味着台积电的新工艺研发就走进了死胡同。 事实上，台积电在今年八月底就已经在全球首家成功使用28nm工艺试制了64Mb SRAM单元，并在三种不同工艺版本上实现了相同的良品率。 按照规划，台积电将在明年前三个季度分别开始试产28nm高性能高K金属栅极(28HP)、28nm低功耗
- 关键字：台积电32nm40nm高K金属栅极
- 2009秋季英特尔信息技术峰会于9月22日至24日在美国旧金山举行。下面是Bob Baker第一天主题演讲的主要内容及新闻亮点。 Bob Baker：“引领硅技术创新”(Silicon Leadership – Delivering Innovation) 英特尔高级副总裁兼技术与制造事业部总经理 Bob Baker今天发表主题演讲介绍了英特尔通过新材料、硅技术与制造能力的研究与创新，将摩尔定律不断推向前进的不懈努力。 · 全球
- 关键字：Intel摩尔定律22纳米高k金属栅极
高k金属栅极介绍
您好，目前还没有人创建词条高k金属栅极!
欢迎您创建该词条，阐述对高k金属栅极的理解，并与今后在此搜索高k金属栅极的朋友们分享。
创建词条
关于我们-
广告服务-
企业会员服务-
网站地图-
联系我们-
征稿-
友情链接-
手机EEPW
Copyright ©2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《电子产品世界》杂志社 版权所有 北京东晓国际技术信息咨询有限公司
京ICP备12027778号-2 北京市公安局备案：1101082052 京公网安备11010802012473
