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台积电预估CoWoS产能将超倍增长

作者: 时间:2024-07-22 来源:SEMI 收藏

7月18日,举办第二季度法说会。董事长兼总裁魏哲家提出“2.0”,将包含封装、测试、光罩制作以及记忆体制造相关的IDM产业,预期在此新定义下,今年产业将增长10%。

本文引用地址://m.amcfsurvey.com/article/202407/461239.htm

按制程来看,第二季度3nm营收占晶圆总收入的15%,5nm占35%,7nm占17%。魏哲家指出,过去三个月,公司观察到更强客户需求,包含AI相关和高端智能手机相关需求相较三个月前更加强大,这使得公司领先业界的3nm和5nm制程技术的整体产能利用率在2024年下半年增加。

对于(Chip on Wafer onSubstrate)先进封装供需状况和产能进展的问题,董事长魏哲家表示,人工智能(AI)芯片带动先进封装需求持续强劲,预估今年和2025年产能均将超过倍增,期盼2025年供应紧张缓解,2026年供需平衡,并与后段专业封测代工厂(OSAT)持续合作布局先进封装。

台积电先前预期,2022年至2026年CoWoS产能复合年均增长率超过60%。据悉,台积电位于竹南的AP6于去年6月正式启用,目前已成为中国台湾地区最大的CoWoS封装基地;位于中科的先进封装测试5厂,预计2025年量产CoWoS;位于嘉义的先进封装厂于今年5月动工,预计2026年底完工。

对于台积电在CoWoS以外其他先进封装技术布局。魏哲家表示,台积电持续关注并研发扇出型面板级封装(FOPLP)技术,目前已经成立了专门的研发团队和生产线,不过相关技术还尚未成熟,相关成果可能会在3年内问世。

此外,台积电N2制程技术研发进展顺利,魏哲家表示,装置性能和良率皆按照计划,甚或优于预期,也将如期在2025年进入量产,其量产曲线预计与N3相似。接下来还有N2P制程技术做为N2家族的延伸,N2P较N2有5%的性能增长,以及5%~10%的功耗优势,未来将为智能手机和高效能运算应用提供支持,计划于2026年下半年量产。预期2nm技术在头两年的产品设计定案(tape outs)数量将高于3nm和5nm的同期表现。



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