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创新，引领未来

• 原子层沉积(ALD, Atomic Layer Deposition)工艺，是当前及未来工艺节点相关的收缩及更复杂器件几何形状上沉积薄层材料的关键技术。如今，随着技术节点以惊人的速度持续进步，精确而又高效地生成关键器件特征成为了一项持久的挑战。 原子层沉积工艺依靠专业的高性能原子层沉积阀在数百万个脉冲中输送精确的化学品剂量，构建形成材料层。为了达到原子级精密度和高生产良品率，输送这些脉冲式化学品剂量的阀门必须日益精确且一致。世伟洛克一直致力于此，不断刷新ALD阀使用寿命、响应时间、高温高流量应用
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