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2016年CPU/GPU前景展望 谁会称雄半导体业?

作者: 时间:2016-02-17 来源:超能网 收藏
编者按:2015年已经远去,尽管PC产业再一次遭遇了下滑的困境,但技术进步是止不住的,新技术能创造全新的需求,从而推动产品升级换代,然而在过去几十年里,主导芯片产业一直被摩尔定律马上要被打破,在这种情况下2016半导体行业谁能称雄。

   2016年有哪些技术值得我们关注?在回顾了2015之后,今天我们首先来看半导体/处理器领域的,作为PC核心的CPU、GPU等产品又会有哪些值得关注的技术进步呢?

本文引用地址://m.amcfsurvey.com/article/201602/286997.htm

2016年英特尔/AMD/IBM/三星谁会称雄半导体业?

1、半导体制造工艺逼近10nm,摩尔定律还能饭否

  半导体技术是整个PC产业的根基,半导体工艺没进步,核心PC产品就无法继续发展。在过去的50年中“摩尔定律”成了主导半导体工艺进展的金科玉律,Intel不仅是摩尔定律的提出者,也是摩尔定律最坚定的捍卫者,Intel也靠着摩尔定律成就了一方霸业。


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  半导体工艺进步决定了PC产业核心发展

  但是业界对摩尔定律的质疑也从来没断过,特别是最近几年,很多人都认为硅基半导体技术很快就要面临极限了,Intel自己的“Tick-Tock”钟摆战略在Haswell架构之后也失效了,14nm工艺延期了一年多,以致于到了2016年14nm依然会是主流。

  按照目前的形势来看,14/16nm FinFET工艺已经成熟,除了Intel之外,TSMC、三星已经在去年分别量产了14nm、16nm FinFET工艺,今年开始量产第二代高性能工艺了,GlobalFoundries今年也会量产14nm工艺。下一步是10nm节点,虽然进度比预期的晚,不过10nm工艺现在也渡过研发阶段了,目前正在准备量产,Intel预计是在2017年下半年推出10nm CannonLake处理器,TSMC与三星在10nm工艺上更积极,对宣称今年下半年就会量产10nm工艺。

  10nm之后就是7nm节点了,但它离量产还有段距离,因为工艺越先进,晶体管间距越小,漏电流也愈加严重,导致晶体管功耗过高。除此之外,先进的生产工艺还要依赖半导体制造装备的进步,原本在10nm工艺就准备启用的EUV光刻机一直不够成熟,ASML公司为了研发EUV设备投入了相当多的资源,但EUV光刻机的产量及光照强度还是上不去,离规模化工业生产还有很长的距离,以致于Intel等公司并不看好7nm节点启用EUV的前景,有可能要拖到5nm节点。


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  IBM率先推出了7nm工艺,使用的是新型半导体材料

  硅基半导体受挫,科研人员很早就开始寻找新的半导体材料,包括砷化镓、碳纳米管甚至量子阱晶体管。2015年IBM及合作伙伴三星、GlobalFoundries率先展示了7nm工艺芯片,使用的就是硅锗材料,使用这种材料的晶体管开关速度更快,功耗更低,而且密度更高,可以轻松实现200亿晶体管,晶体管密度比目前的硅基半导体高出一个量级。

  Intel虽然没有展示过7nm工艺,但他们对此一直很自信,此前表态称即便没有EUV工艺,他们也懂得如何制造7nm芯片,但愿这没有在吹牛,因为Intel能否即时推出7nm工艺,关系着摩尔定律还能否再战二十年。

  2、处理器进入10核+时代:爆发,Intel求稳

  半导体工艺发展虽然很重大,但并不急迫,、Intel新一代处理器至少还有14nm、10nm两代工艺可用。2016年这两家都会推出新一代处理器,其中推的是呕心沥血研发多年的改头换面之作——Zen处理器,Intel今年则会有Broadwell-E及Kabylake处理器。


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  先说老大Intel,今年的2代新品中,Broadwell-E是针对LGA2011平台的HEPT发烧级处理器,Kabylake是针对主流市场的LGA1151处理器,前者最动人的地方在于桌面处理器首次出现10核心设计,旗舰型号Core i7-6950X将是10核20线程,频率3.0GHz,L3缓存高达25MB。

  至于AMD,他们今年上半年会把第四代模块化架构Excavator核心带到桌面市场上,推出AM4插槽的Bristol Ridge处理器,下半年的重点则是Zen架构处理器,也是AM4插槽,但架构、工艺全新升级,放弃之前由推土机架构引入的模块多核理念,回归传统的SMT多线程。


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  Zen架构处理器将回归传统的SMT多线程架构

  Zen架构曝光率非常高,隔三差五就要在媒体上亮相,虽然我们对Zen架构的细节所知甚少,但从AMD及各方流传出来的信息来看,Zen架构性能值得期待,官方表示IPC性能提升40%还多,14nm FinFET工艺也会大幅降低处理器的功耗。


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关键词:英特尔AMD

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