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Transphorm推出顶部散热型TOLT封装FET器件,助力计算、人工智能、能源和汽车电源系统实现卓越的热性能和电气性能

—— 新推出器件是业界首款采用顶部散热的TOLT氮化镓晶体管,扩展Transphorm多样化的产品封装组合
作者: 时间:2023-11-29 来源:电子产品世界 收藏

代表着下一代电源系统未来的,(GaN)功率半导体的全球领先供应商, Inc.近日宣布新推出一款形式的®FET。新产品TP65H070G4RS 晶体管的导通电阻为72毫欧,为业界首个采用JEDEC标准(MO-332)的顶部散热型表面贴装器件。针对不适合使用传统底部散热型表贴器件的系统,为客户提供了更为灵活的热管理方案。采用TOLT 封装,不仅热性能可媲美广泛使用的、热性能稳定的TO-247插孔封装,还具有基于SMD的印刷电路板组装(PCBA)实现高效制造流程的额外优势。

本文引用地址://m.amcfsurvey.com/article/202311/453422.htm

TP65H070G4RS 采用了强大的高性能 650 V 常闭型 d-mode平台,该平台具有更低的栅极电荷、输出电容、交叉损耗、反向恢复电荷和动态电阻,从而效率优于硅、碳化硅和其他氮化镓产品。平台的优势与 TOLT 封装更好的散热性及系统组装灵活性相结合,为寻求推出具有更高功率密度和效率、总体功率系统成本更低的电源系统客户提供了高性能、高可靠性的GaN解决方案。

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正在与全球多个高功率GaN合作伙伴展开合作,包括服务器和存储电源领域的领先客户,能源/微逆变器领域的全球领导者,创新型离网电源解决方案制造商,以及卫星通信领域的领军企业。

Transphorm 业务发展及市场营销高级副总裁 Philip Zuk 表示:“TOLL 和 TOLT 这样的表面贴装器件具有降低内部电感,以及在制造过程中更简单的板载安装等诸多优势。TOLT 通过采用顶部散热来提供更灵活的整体热管理,具有类似插孔式的散热性能。这些器件通常用于中高功率系统应用,关键细分市场包括高性能计算(服务器、电信、人工智能电源)、可再生能源和工业、以及电动汽车等。目前,其中一些市场应用已采用了Transphorm的氮化镓技术。我们非常高兴能够通过TOLT解决方案帮助客户实现额外的系统级优势。”

继最近推出三款新型TOLL FET 后,Transphorm发布该款TOLT FET新产品,进一步丰富了 Transphorm 的产品线,并彰显了Transphorm SuperGaN 平台采用不同封装形式器件“镓”驭全功率以支持客户应用的市场承诺。

器件规格

SuperGaN 器件凭藉其无与伦比的性能优势引领市场:

● 可靠性:FIT失效率低于0.05

● 栅极安全裕度:± 20 V

● 抗扰性:4 V

● 电阻温度系数(TCR)比 e-mode 常闭型氮化镓器件低 20%

● 驱动灵活性(可采用标准的市售硅器件驱动器)

该650 V SuperGaN TOLT 封装器件稳健可靠,已通过 JEDEC 标准认证。由于常闭型 d-mode 平台是将GaN HEMT与一个集成型低电压硅 MOSFET结合,因此,SuperGaN FET 可以使用常用的市售栅极驱动器驱动,应用于各种硬开关和软开关 AC-DC、DC-DC 和 DC-AC 拓扑中,提高功率密度,并减少系统尺寸、重量和成本。

器件

尺寸

(mm)

RDS(on)

(mΩ)typ

RDS(on)

(mΩ) max

Vth(V)

typ

Id(25°C)

(A)max

TP65H070G4RS

10 x 15

72

85

4

29

订购及支持资源

TP65H070G4RS SuperGaN TOLT 封装器件目前可提供样片。



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