英特尔计划投资70亿美元升级美国工厂

　　2月11日消息，据国外媒体报道，英特尔CEO欧德宁周二表示，公司将在未来2年里投资70亿美元，在美建造先进的制造工厂，工厂将采用最先进的32纳米制造工艺。

　　这也是英特尔历史上为单一制造工艺投入的最大一笔资金，从2002年起公司在美国的研发和资本性支出上已经投入了500亿美元。

英特尔的投资将针对位于俄勒冈、亚利桑那和新墨西哥三州的现有工厂，预计可创造7000个工作岗位。英特尔计划利用这些投资将生产工艺转向更先进的32纳米技术，生产更高速、更小型化和低能耗的芯片。英特尔希望此举能在x86芯片市场上保持对竞争对手的领先优势。

　　另外，英特尔准备从2009年起提高32纳米制程“Westmere”芯片的产量，并在2010年推出更多32纳米芯片。