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离子注入文章进入离子注入技术社区

建设高端半导体装备，SRII赋能新一代集成电路制造

  • 思锐智能携业界尖端的离子注入（IMP）和原子层沉积（ALD）技术亮相SEMICON China 2024，持续建设全球一流的高端半导体制造装备，广泛赋能集成电路、第三代半导体等诸多高精尖领域。展会现场精彩瞬间思锐智能离子注入机（IMP）模型根据SEMI的数据，受芯片需求疲软等影响，2023年全球半导体设备销售额为1056亿美元，同比下降1.9%，而中国大陆地区半导体设备销售额同比增长28.3%。中国对成熟节点技术表现出了强劲的需求和消费能力。纵观全局，离子注入已成为半导体器件制备中最主要的掺杂方法，是最基
  • 关键字：高端半导体装备SRII集成电路制造思锐智能SEMICON China离子注入IMP原子层沉积ALD

离子注入技术简介

  • 离子注入技术介绍：把掺杂剂的原子引入固体中的一种材料改性方法。简单地说，离子注入的过程，就是在真空系统中，用经过加速的，要掺杂的原子的离子照射（注入）固体材料，从而在所选择的（即被注入的）区域形成一个
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离子注入机失效检测新方法

  • 随着器件线宽和层厚的缩小，离子注入计量设备对硅片上杂质分布均匀性进行直接监测的能力已经开始受到限制。同时，特征尺寸的缩小和参数性能的要求，使关键注入参数的工艺窗口不断变窄，而离子束电流和硅片尺寸却在不
  • 关键字：离子注入方法失效检测

离子注入技术原理

  • 离子注入技术原理离子注入是将离子源产生的离子经加速后高速射向材料表面，当离子进入表面，将与固体中 ...
  • 关键字：离子注入技术原理

离子注入设备和方法

  • 离子注入设备和方法最简单的离子注入机（图2）应包括一个产生离子的离子源和放置待处理物件的靶室。当 ...
  • 关键字：离子注入设备方法
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离子注入介绍

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