首页 | 嵌入式系统 | 显示技术 | 模拟IC/电源 | 元件与制造 | 其他IC/制程 | 消费类电子 | 无线/通信 | 汽车电子 | 工业控制 | 医疗电子 | 测试测量
首页> 分享下载> 元件与制造> 基于ICP的金属钛深刻蚀

基于ICP的金属钛深刻蚀

资料介绍
摘要:MEMS应用领域的扩展要求开发硅材料之外其他新型材料的三维微细加工技术.为此,对金属钛这一新型MEMS体材料的三维加工进行了探索.金属钛不仅延展性和导电性好,且断裂韧度高、高低温特性以及生物兼容性好.采用电感耦合等离子体源(inductivelycoupledpla蛐,I凹)技术对金属钛进行三雏深刻蚀,采用不同刻蚀掩模、氯基刻蚀气体,研究了线圈功率、平板功率和娼流量对刻蚀速率和选择比等工艺参数的影响,并对砸深刻蚀参数进行了优化,得到0.91州面n的刻蚀速率,可实现光滑表面和陡直侧壁。
标签: 腐蚀刻蚀
基于ICP的金属钛深刻蚀
本地下载

评论