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晶圆清洗

资料介绍
摘要：介绍了半导体IC制程中存在的各种污染物类型及其对IC制程的影响和各种污染物的去除方法,并对湿法和干法清洗的特点及去除效果进行了分析比较。
标签： 湿法清洗设备， 泛半导体
晶圆清洗
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