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晶圆双雄2010年资本支出大手笔扩增

作者: 时间:2010-01-11 来源:DigiTimes 收藏

  2010年一开春、联电法说成外界关注焦点,双雄对于2010年景气的论调与资本支出将会是外界解读景气的重要指标之一。半导体设备业者表示,尽管2009年景气波动剧烈,但以为例,过去景气不错的数年,采买设备都不手软,目前已知2010年台积电资本支出将高达约45 亿美元,联电资本支出则约10亿美元,都大幅超前2009年。

本文引用地址://m.amcfsurvey.com/article/102812.htm

  台积电2009年可说已算是砸大钱在资本支出上,台积电总共约采买新台币1,450亿元,相当于45亿美元添购设备,预料将使原本已经产能稍许吃紧的设备业者,在因应急单时更捉襟见肘。

  据了解,甚至部分大外商已经在铜制程蚀刻设备方面无法因应客户急单,因为有许多半导体厂如台积电、联电、全球(Global Foundries)及大型整合元件厂、厂订单都集中在第1季。

  这样晶圆厂仅及扩充产能、急拉设备的情况在2010年将会延续,这意味著对半导体设备业者的大多头市场来临。

  据半导体设备业者估计,台积电2010年资本支出约计45亿美元,较2009年28亿~29亿美元至少成长6成;值得注意的是,台积电不仅扩充一般性制程,也会积极采买前段微显影设备。

  业者分析,这可能与台积电之前的40奈米良率问题有关,台积电若未能有效克服良率拉高的挑战,短期内将以扩充机台做为解决客户产能不足的权变方案。因此在技术方面,40奈米良率仍将是本季台积电法说外界关切焦点,其次则是台积电的资本支出额度。

  在联电方面,半导体设备业者预估,联电2010年资本支出成长幅度较台积电高,主要是联电2009年资本支出基期较低,但2010年联电在12寸厂先进制程将会较积极,因此2010年资本支出则上看10亿美元,较2009年的5亿美元达到倍增的程度。联电的扩充重点据点则将会是新加坡的UMCi及12B的先进制程产能。



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